1. Penapisan dalam
Media penapis agak longgar, jurang antara gentian dan gentian adalah besar, apabila saiz zarah purata habuk dalam 1μm, sebahagian daripada zarah halus akan memasuki pengekalan dalaman media penapis ke bawah, bahagian lain akan memakai bahan penapis melarikan diri keluar. Kebanyakan habuk melekat pada permukaan bahan penapis, membentuk lapisan penapis, yang akan menapis habuk dalam aliran habuk ke bawah. Dan masukkan zarah halus di dalam bahan penapis, akan membuat rintangan meningkat, bahan penapis menjadi keras, sehingga sekerap. Penapisan jenis ini dipanggil penapisan dalam, yang tidak sesuai untuk industri kaca.
2. Penapisan permukaan
Dalam longgar pada satu sisi gas berdebu, bahan penapis sentuhan lapisan pelekat membran mikroporous, jurang antara gentian hanya {{0}}.1 ~ 0.2 mu m, jika habuk saiz zarah purata ialah 1 mu m, operasi penapisan, hampir semua habuk akan disekat pada permukaan membran mikroporous, habuk kecil tidak boleh memasuki bahan penapis, cara penapisan ini sering dirujuk sebagai penapisan lapisan permukaan. Penapisan permukaan adalah teknologi penapisan yang ideal, ia boleh meningkatkan lagi kecekapan penyingkiran habuk, mengurangkan kehilangan tekanan media penapis, mengurangkan penggunaan kuasa sistem penyingkiran habuk. Penapisan jenis ini sesuai untuk industri kaca.
